GEMS流量开关在冷却系统的应用
在很多具有功率耗散的系统中必须有水冷系统才能正常工作，如反应管，单晶炉，激光器，真空泵等。操作者除了注意冷却水的压力外更关心水的流量. 激光器： 大功率激光器广泛应用于激光切割、激光焊接、医疗、激光打标签等，这些激光器包括CO2激光器，YAG激光器等固体激光器。这些激光器功率大、能量集中，必须有水冷系统才能正常工作。 如图是一台激光器的冷却机，它由水槽（水槽中也会用到类似我们LS-7一样的液位开关）、制冷机组、温度监测和流量监测几个部分组成。
它的流量监测系统使用Gems FS-380。它的开关设定点是5LPM±10%。 通常情况下激光器冷却机的冷却水流量在7LPM左右（随激光器的功率和制冷机组的功率而变化），这时系统得到一个有冷却水的信号。当冷却水流量低至5LPM时系统会报警或切断功率电源，保护激光器不被损坏。右图是一台激光分子束外延设备 类似这样的设备都会用到流量开关，它们要求水温小于25℃，流量在5LPM-10LPM，水压250kPa.
类似的应用还有很多。例如：单晶炉 单晶炉是一个将非晶体材料加热熔化，通过晶体生长技术将其转化为单晶结构的设备，如下图 这个设备一般有两个位置需要水冷： 炉膛：炉膛是一个双层结构，冷却水从炉膛底部进入，从炉膛上部流出。在整个工作过程中始终保持流动状态。它的特点是水流量大，但流量相对来说不需要十分稳定。可推荐Gems RFI或FS-550。另一个需要水冷的地方是引晶杆儿和坩埚托杆，它们分别从炉膛的顶部和底部探入炉膛，由于这两个部件会影响晶体生长的速度和品质因此流量控制相对严格一些，可以选择Gems RFS，FS-200，Gems FS-380等。 对于区熔单晶炉，其感应线圈也需要水冷，可选用Gems FS-380。